Impianti

FAR_100

L’impianto FAR_100 è particolarmente indicato per produzioni pilota, per avviare un efficiente mini centro di rivestimento o per ricerca e sviluppo.
L’impianto FAR_100 è di piccole dimensioni ma, grazie alla progettazione accurata della tavola, possiede una capacità carica sorprendente, in un volume di appena 100 litri è possibile rivestire 90 frese del diametro di 10 e per un altezza di 140 mm.
L’impianto FAR_100, su richiesta del cliente, è possibile trasformarlo in un impianto PACVD o PECVD con l’aggiunta di sorgenti al plasma (DC, RF o micronde) o bias a Radio Frequenza per depositare rivestimenti DLC o SiOx a scopo di ricerca o per piccole produzioni pilota.

Tabella Caratteristiche Impianto

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FAR_300

L’impianto FAR_300 è progettato per medie alte produzioni. La produttività dell’impianto FAR_300, a parità di volume della camera di deposizione, è tra le più alte del mercato.
In 50 litri di volume è possibile rivestire 100 frese contro i 100 litri di volume della concorrenza.
Grazie alla tavola estraibile è possibile ridurre al minimo i tempi di fermo impianto.
Su richiesta del cliente è possibile fornire l’impianto con evaporatori magnetron o sorgenti al plasma.

Tabella Caratteristiche Impianto

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Evaporatori FAR_EVA_63

L’evaporatore ad arco elettromagnetico è stato progettato dalla FarCoat srl per ottenere un rivestimento di qualità superiore.
Questo evaporatore viene normalmente montato sugli impianti FAR_300 e FAR_100 ma può anche essere fornito separatamente.
Abbinato a questo evaporatore può essere fornito un generatore di corrente monofase con scheda di controllo progettato dalla FarCoat.

Tabella Caratteristiche Impianto

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